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CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發(fā)誘導(dǎo)成膜”原理研發(fā)生產(chǎn)的*薄膜制備設(shè)備，通過(guò)真空環(huán)境加速溶劑蒸發(fā)，驅(qū)動(dòng)溶質(zhì)（如有機(jī)小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設(shè)備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優(yōu)勢(shì)，廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領(lǐng)域。

CIF離子濺射儀是一款專(zhuān)為貴金屬及合金材料鍍膜研制的高精度設(shè)備，集*控制技術(shù)與人性化設(shè)計(jì)于一體，可實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)、高效且穩(wěn)定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實(shí)驗(yàn)與精密制造領(lǐng)域，為用戶(hù)提供高質(zhì)量、一致性高的鍍膜效果。

CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性?xún)r(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。

CIF推出全新一代 CPC-10系列實(shí)驗(yàn)室型等離子體清洗設(shè)備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性?xún)r(jià)比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實(shí)驗(yàn)室型等離子體清洗設(shè)備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念。CIF實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性?xún)r(jià)比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。

CIF推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，通過(guò)協(xié)同優(yōu)化的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與腔體空間，顯著拓展了樣品處理容量與應(yīng)用范圍。該設(shè)備性能可靠，兼顧了操作的簡(jiǎn)便性與維護(hù)的便捷性，滿足高標(biāo)準(zhǔn)科研需求。

CIF為科研實(shí)驗(yàn)專(zhuān)門(mén)推出一種實(shí)驗(yàn)室注射泵，高精度微量流體傳輸注射泵-SP-2型注射泵。它采用高強(qiáng)度航空軸承、優(yōu)異的控制系統(tǒng)和精密的機(jī)械結(jié)構(gòu)，使用壽命更長(zhǎng)，精度更高。

CIF臭氧中和器（UVO-N）用于紫外臭氧清洗機(jī)臭氧去除配套設(shè)備。主要是通過(guò)納米級(jí)金屬氧化物催化劑分解臭氧，以及利用臭氧的不穩(wěn)定性加速臭氧快速流動(dòng)從而達(dá)到快速去除臭氧的目的。